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TIAメールニュース バックナンバー

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ここではTIAメールニュースのバックナンバーを最新10件閲覧することができます。

2023.11.01 09:51:43 配信
【TIA】マテリアル戦略総合シンポジウム2023(MatISS2023)開催のおしらせ
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.11.01 号 】…・・◆◇◆

マテリアル戦略総合シンポジウム2023(MatISS2023)開催

日時:2023年12月5日(火)10時~ オンライン併用開催

場所:一橋大学一橋講堂 https://www.hit-u.ac.jp/hall/accessjp.html

開催趣旨:
我が国のマテリアル科学・産業の競争力低下が指摘される中、マテリアル革新力強化戦略が
提言され、この中で、データ駆動型材料開発の重要性が高まっています。文部科学省では、
マテリアルデータを、つくる、ためる、つかう、3 つの事業を展開し相互に連携することで
マテリアル DX プラットフォームを構成することを目指しています。

基調講演1:細野 秀雄(東京工業大学 栄誉教授)

基調講演2:Thomas Schrefl (Professor, University for Continuing Education Krems, Austria)

詳細はホームページをご覧ください。
https://nanonet.mext.go.jp/page/matiss_2023.html


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TIAは、産業技術総合研究所(産総研)、物質・材料研究機構(NIMS)、
筑波大学、高エネルギー加速器研究機構(KEK)、東京大学、東北大学が
運営する、オープンイノベーション拠点です。
------------------------------詳しくは https://www.tia-nano.jp

*TIAメールニュースは、TIAが主催・共催または出展したシンポジウムや
展示会において連絡先をいただいた方にお送りしております。

メール内容やTIAについてのお問い合わせは、下記宛てにメールしてください。
tia_info@tia-nano.jp
メールニュースの停止や配信先の変更は、以下宛てにメールでご連絡ください。
mailmag@tia-nano.jp

2023.09.14 09:16:01 配信
【TIA】【AIチップ設計拠点】9月29日(金)13:30~16:40(Web形式)で第51回AIチップ設計拠点フォーラムを開催します。参加申込みは、本リンク先からお願いします。(〆切:9月26日)
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.09.14 号 】…・・◆◇◆

□■ 第51回AIチップ設計拠点フォーラム(Web形式)開催のお知らせ ■□

"AIチップ設計拠点"(https://www.ai-chip-design-center.org)では、AIチップやLSI設計に関わる研究者、技術者の交流を深め、技術情報を共有する場としてフォーラムを月1回のペースで開催しております。ぜひご参加ください。(申込〆切:9月26日)

1.日時 9月29日(金)13:30-16:40
2.開催方法(WEB形式)
https://ai-chip-design-center.org/aiforum202309/ 
(参加登録者には、9月27日~29日午前中にWebフォーラム参加のためのリンクアドレスを通知します。)


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TIAは、産業技術総合研究所(産総研)、物質・材料研究機構(NIMS)、
筑波大学、高エネルギー加速器研究機構(KEK)、東京大学、東北大学が
運営する、オープンイノベーション拠点です。
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2023.08.10 13:38:04 配信
【TIA】第50回AIチップ設計拠点フォーラム(Web形式)開催
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.08.10 号 】…・・◆◇◆

□■ 第50回AIチップ設計拠点フォーラム(Web形式)開催のお知らせ ■□

"AIチップ設計拠点"(https://www.ai-chip-design-center.org)では、AIチップやLSI設計に関わる研究者、技術者の交流を深め、技術情報を共有する場としてフォーラムを月1回のペースで開催しております。ぜひご参加ください。(申込〆切:8月22日)

1.日時 8月25日(金)13:30-16:40
2.開催方法(WEB形式)
https://ai-chip-design-center.org/aiforum202308/
(参加登録者には、8月23日~25日午前中にWebフォーラム参加のためのリンクアドレスを通知します。)


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筑波大学、高エネルギー加速器研究機構(KEK)、東京大学、東北大学が
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2023.08.04 14:01:27 配信
【TIA】かけはしミーティング「部分窒化無酸素無炭素チタン蒸着膜の産業応用に関する調査研究」開催
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.08.04 号 】…・・◆◇◆

■ 令和5年度TIA連携プログラム調査研究課題(かけはし)
「部分窒化無酸素無炭素チタン蒸着膜の産業応用に関する調査研究」ミーティング開催のお知らせ

日時:8月23日(水)13:30~16:30
方式:Zoomミーティングによるオンライン開催
参加費:無料 
事前登録ページ: https://kds.kek.jp/event/47677/
(Login画面で『Access Key』欄には、その上部に表示されているアルファベットを入力してください)
登録締め切り:8月23日(水)12:00
問い合わせ先:間瀬一彦(KEK)、mase@post.kek.jp


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2023.08.02 13:57:09 配信
【TIA】連携プログラム探索推進事業「かけはし」23年度採択テーマ公開
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.08.02 号 】…・・◆◇◆

■ 連携プログラム探索推進事業「かけはし」の23年度採択テーマを公開しました。
今年度、注目が高かったのは #分析技術 #エネルギー #医療・健康 #データ科学 に関する研究です。
各研究概要は今夏、公開予定です。ぜひご注目ください。

https://www.tia-nano.jp/page/page000637.html

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2023.07.26 13:23:46 配信
【TIA】DxMT Orangeハンズオンセミナー、MIRCフォーラム開催
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.07.26 号 】…・・◆◇◆

■□ データ駆動型材料開発の最先端を無料で学べる!
DxMT Orangeハンズオンセミナー開催(全3回)□■
データ創出・活用型マテリアル研究開発プロジェクト (DxMT)では 、データ駆動型材料開発に必要な計算手法などの紹介と解説を行う無料のOrangeハンズオンセミナーを開催します! 
ご参加をお待ちしております!

(超初心者向け) Orange Data Miningによるマテリアルズ・インフォマティクス連続ハンズオン
第1回 2023年8月1日(火)
第2回 8月3日(木)
第3回 8月10日(木) 各日14時00分~15時30分



■□ 第6回MIRCフォーラム ~ナノマテリアルの計測技術~ を開催します□■
開催日時: 2023年9月12日 (火) 13:30~16:30(予定)
開催方法: Zoomによるオンライン開催
参加費 : 無料(先着300名まで)
開催概要:
http://mirc.k.u-tokyo.ac.jp/wp-content/uploads/2023/07/20230912MIRCA4.pdf 
申込: http://mirc.k.u-tokyo.ac.jp/ 

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2023.07.14 14:59:02 配信
【TIA】第7回かけはし成果報告会 参加御礼&アンケートのお願い
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.07.14 号 】…・・◆◇◆

■第7回TIAかけはし成果報告会 ご参加の御礼
「第7回TIAかけはし成果報告会」にご参加いただき、誠にありがとうございました。
今回の内容が、お役に立ちましたら幸いです。

各研究内容についてのお問合せや質問は、各テーマをクリックすると表示される連絡先にご連絡いただくか、下記のメールフォームにお寄せください。

かけはしテーマ一覧
https://www.tia-nano.jp/page/page000568.html

お問い合わせフォーム
https://www.tia-nano.jp/inq.php

また、簡単なアンケートにご協力いただければ幸いです。(所要時間3分、〆7月19日16時)
アンケート
https://docs.google.com/forms/d/e/1FAIpQLSfe9tkb1UaOmVM5NYnyvoXcBoDvm64N3BeNXsx2-4GHUDt7Gw/viewform

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2023.07.12 14:23:18 配信
【TIA】第7回TIAかけはし成果報告会、XAFS統合データベースの第二歩 
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.07.12 号 】…・・◆◇◆

□■ 第7回TIAかけはし成果報告会 ■□
かけはし成果報告会を明日開催します!
本日まで参加登録可能ですので、お急ぎください。
皆さまのご参加を、お待ちしております。

1.日時 :2023年7月13日(木)13:30~15:50
2.開催方法 :ハイブリッド(会場開催 & Zoomウェビナー)
3.会場 :東京大学 弥生講堂 一条ホール

プログラム詳細確認と参加登録は、下記URLよりお願いいたします。
https://www.pco-prime.com/tia-kakehashi/


□■ XAFS統合データベースの第二歩 ■□
2022年度かけはし課題「放射光研究DX化のための多機関連携XAFSデータベース拡張技術調査研究」のワークショップを開催します。

1.日時 :2023年10月18日(水) 13:30~16:30
2.開催方法 :ハイブリッド(会場開催 & Teams)
3.会場 :一橋大学 一橋講堂 中会議室4
4.参加 :参加費無料、参加登録要

詳細と参加登録は、こちらをご覧ください。
https://forms.office.com/r/9tpWbP4CzB

皆さまのご参加を心よりお待ちしております。



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2023.07.05 13:10:52 配信
【TIA】第7回かけはし成果報告会・第49回AIチップ設計拠点フォーラム
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.07.05 号 】…・・◆◇◆

■第7回TIAかけはし成果報告会

【参加登録受付中】7月13日(木)13:30~15:50
第7回かけはし成果報告会を、ハイブリッドで開催します。
リアル会場は、東京大学 弥生講堂 一条ホール(定員140名)です。(申込〆切:7月12日)
詳細確認・参加登録は、下記URLでお願いいたします。
https://www.pco-prime.com/tia-kakehashi/ 

リアル会場は、下記URLをご参照ください。
https://www.a.u-tokyo.ac.jp/yayoi/
沿革や平面図、画像などで、会場の様子が分かります。
多彩な木の素材(カラマツ、カナダスギ、オークなど)を使用した落ち着いた雰囲気で、ホッとする感じの内庭もあります。
ポスターセッションは、エントランスホール周辺で行います。
皆さまのご参加を、お待ちしております!



■第49回AIチップ設計拠点フォーラム(Web形式)開催のお知らせ

"AIチップ設計拠点"(https://www.ai-chip-design-center.org)では、AIチップやLSI設計に関わる研究者、技術者の交流を深め、技術情報を共有する場としてフォーラムを月1回のペースで開催しております。ぜひご参加ください。(申込〆切:7月25日)

1.日時 7月28日(金)13:30-16:40
2.開催方法(WEB形式)
https://ai-chip-design-center.org/aiforum202307/
(参加登録者には、7月26日~28日午前中にWebフォーラム参加のためのリンクアドレスを通知します。)

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TIAは、産業技術総合研究所(産総研)、物質・材料研究機構(NIMS)、
筑波大学、高エネルギー加速器研究機構(KEK)、東京大学、東北大学が
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展示会において連絡先をいただいた方にお送りしております。

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2023.06.28 09:18:38 配信
【TIA】
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TIA ニュース
━━━━━━━━━━━━━━━━━━━【 2023.06.28 号 】…・・◆◇◆

第7回 TIA かけはし成果報告会(7/13ハイブリッド開催)
https://www.pco-prime.com/tia-kakehashi/

成果講演5(15:15-15:30):
【研究題目】3次元構造を持つホウ化水素関連物質群の合成と構造解析
【代表機関】筑波大学 数理物質系
【調査研究代表者】近藤 剛弘
【発表要旨】
ホウ素骨格が3次元フレームワーク構造を有する新物質を基軸に、新たなホウ化水素物質
関連物質群を創出することで、特異な水素貯蔵機能や触媒機能を持つ材料群の創出を目指します。
本研究ではCaB6に着目し物質内でカルシウムイオンと水素イオンを交換することで、
フレームワーク構造を有した新たなホウ素と水素の3次元物質の創出を進めました。
3Dフレームワークの構築により今後物質輸送が鍵となる機能性材料の創出が可能となり、
将来的には新たな電池材料や触媒材料はもとより新たな超電導材料、光機能材料へと
応用の範囲が広がることとなります。本講演ではこれまでの成果について紹介します。

成果講演6(15:30-15:45):  
【研究題目】部分窒化無酸素無炭素チタン蒸着膜の産業応用に関する調査研究
【代表機関】高エネルギー加速器研究機構 物質構造科学研究所 放射光実験施設
【調査研究代表者】間瀬 一彦
【発表要旨】
超高真空中で加熱すると反応性の高い表面が生成し(活性化)、残留ガスを排気する機能性材料を
非蒸発型ゲッター(NEG)と呼びます。活性化後のNEGは無電源で超高真空を維持できることから、
CO2排出削減に貢献します。私たちは炭素と酸素が極めて少なく、表面を部分的に窒化したTiを蒸着
して、活性化温度が低く、耐久性が高いNEG開発するとともに、民間企業6社と協力して、超高真空
関連産業への応用の可能性を調査しております。本講演ではこれまでの成果について紹介します。


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