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【課題募集】KEKフォトンファクトリーの産業利用(〆切:平成26年1月14日(火)午後5時)

先端研究基盤共用・プラットフォーム形成事業
フォトンファクトリーの産業利用課題の募集

産業利用のトライアルユース課題を募集しています。
この事業は、フォトンファクトリー(PF;高エネルギー加速器研究機構放射光科学研究施設)の放射光を用いた材料評価・解析技術(XAFS、蛍光X線分析、イメージング、トポグラフィー等)を産業界の研究開発に活用していただくことを目的としています。

特にこれまで放射光利用に馴染みがなかった企業の方にも容易に利用していただけるよう、専任のスタッフが研究計画の策定、実験操作、データ解析・解釈等のお手伝いをします。これらの支援や研究施設の利用に関し、利用者の費用負担はありません。



【定期募集】

平成26年4月からの利用について課題を募集しています。採択されると、4月から最長1年間PFの放射光を利用できます。

課題申請書の提出期限は平成26年1月14日(火)午後5時です。

より良い課題申請書作成のために事前打合せを行っております。事前打合せを行うには課題応募する旨平成25年12月16日(月)までに共用促進リエゾンにご連絡ください。
< http://pfwww.kek.jp/innovationPF/07_INQUIRY/inquiry_index.html>

いずれの場合も、利用希望者は先ず共用促進リエゾンにご連絡ください。
【共用促進リエゾン】pfkyoyo@pfiqst.kek.jp

本事業や課題募集の詳細は下記URLをご覧ください。
http://www2.kek.jp/imss/pf/approach/industry/