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TIAの事業・活動

2017かけはし情報(デバイス応用を目指したHfO2系...)

テーマ名:デバイス応用を目指したHfO2系強誘電体薄膜の合成技術の調査研究
担当者名:右田 真司(AIST)

 

かけはし調査研究報告書 (2018.4)

ポスター

第2回かけはし成果報告会 (2018.7.4)

nanotech2018ポスター (2018.2.14)

第2回かけはし成果報告会 (2018.7.4)