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TIAの事業・活動

ナノエレクトロニクス

ナノエレクトロニクスの領域では、東京大学に設置されたAIチップ設計拠点、東北大学の国際集積エレクトロニクス研究開発センター、さらには産総研のスーパークリーンルーム(SCR)、高機能デバイス研究開発拠点などの研究施設を中心に、デバイス設計技術、微細デバイスプロセス技術・評価技術さらには、先端メモリデバイスや先端IoTデバイスの研究開発、フォトニクス・エレクトロニクスの融合研究など最先端の研究開発が進められています。産業界、大学、研究機関から多数の技術者・研究者が集まって、デバイス、材料、装置開発という多様な研究開発プロジェクトに取り組んでおり、新たな技術や事業の創出に向けたオープンイノベーション拠点を形成しています。
TIAは、さらに、ナノエレクトロニクスの共通基盤技術を幅広く提供するため高度技術者による各プロジェクトへの支援体制を充実させています。

 



若手研究者のネットワーキング活動(TIA-EXA)

スーパークリーンルーム(SCR)を有する最先端デバイス製造施設

広義のエレクトロニクス領域において、産学官の若手研究者・技術者が分野横断的に幅広く交流する場を設け、自由な情報共有・意見交換、およびその促進に関する諸活動を通じて、次世代の融合研究分野を開拓、さらに、それを率いる若手リーダを育成することを目的とし、若手研究者のネットワーキング団体TIA Emerging electroniX research Alliance (TIA-EXA)を作り活動しています。

 
 



高機能IoTデバイス研究開発を支える共用クリーンルーム施設

スーパークリーンルーム(SCR)を有する最先端デバイス製造施設産総研では、3,000m2のスーパークリーンルーム(SCR)をはじめ1,800m2の高機能IoTデバイス研究開発拠点など300mmSiウェハに対応したナノデバイス試作、デバイス3次元積層・実装、評価ができる装置群を配した研究開発プラットフォーム施設を整備し、その機能強化に努めています。これまでに多くの研究開発プロジェクトが、本施設を利用して先端メモリデバイス、3次元積層・実装技術、シリコンフォトニクスなどの分野で成果を生みだしてきました。また、微細加工のみならず、新規材料、装置開発など様々な半導体関連の研究開発をする場として、その機能を充実させています。
https://unit.aist.go.jp/tia-co/orp/index.html

 
 



AIチップ開発を後押しする拠点

拠点機能イメージ
拠点機能イメージ

産総研と東大がタッグを組み、中小・ベンチャー企業のAIチップ設計開発を支援する事業を行っています。設計・検証等の開発環境およびチップ開発を促進する共通技術の開発や人材を育成する環境の整備を進めています。

 

 

革新的な超低消費電力半導体(IoT/AIプロセッサ・センサ等)の研究開発拠点

東北大学国際集積エレクトロニクス研究開発センター(CIES)
東北大学国際集積エレクトロニクス研究開発センター(CIES)

東北大学では、開発してきたスピントロニクス技術と既存の集積回路技術を融合することで、IoTやAI向けの超低消費電力プロセッサ・メモリ分野で世界をリードしています。今後とも、この設計から試作・検証までの開発能力向上と利便性向上に向けて拠点の整備を進めていきます。

 

シリコンフォトニクスの重要拠点

相乗り試作したR&D用シリコンフォトニクスチップ
相乗り試作したR&D用シリコンフォトニクスチップ

次世代の超低消費電力情報処理・通信システムなどを目指して、産総研で開発した世界最先端のシリコンフォトニクス技術を普及させるため、産総研以外の幅広いユーザーが利用可能なR&D用シリコンフォトニクスデバイスの相乗り試作体制を構築し運営しています。