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装置詳細

LL式高密度汎用スパッタリング装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー 芝浦
型式 CFS-4EP-LL i-Miller
用途 成膜・膜堆積
仕様(特徴・詳細) 芝浦 CFS-4EP-LL i-Miller
真空引きが速く、通常10分程度でスパッタリング開始が可能。
また、膜質の安定も期待できる。ターゲットはCFS-4ESと共通。
デフォルトはPt/Au/Cr/Tiを装着。それ以外のターゲットは支援員の技術補助で交換を行う。
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード 成膜、膜堆積、スパッタ