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装置詳細

レーザー直接描画装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー Heidelberg
型式 DWL66+
用途 リソグラフィ・露光・描画装置
仕様(特徴・詳細) Heidelberg DWL66+ 波長406nm 小片アライメントオプション、両面アライメント機能付き。
1024階調の「グレイスケールリソグラフィー」により,フォトレジストの立体形状段差をある程度自由に作れます。
また、GenISys社の変換ソフトウェア「BEAMER」を使うと、形状を得るために、近接効果の影響を計算して露光補正をしてくれます。
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード リソグラフィ、露光、描画、光露光