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装置詳細

高速ランプアニール装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー 米倉製作所
型式 MS-HP2-9
用途 合成、熱処理、ドーピング
仕様(特徴・詳細) MS-HP2-9
φ3inchまで(条件によってφ4inchまで可能)。大気および窒素雰囲気。昇温速度200℃/minまで、到達温度1000℃まで可能。
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード 熱処理、ドーピング、アニール