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装置詳細

汎用平行平板RIE装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー SAMCO
型式 RIE-10NR
用途 膜加工・エッチング
仕様(特徴・詳細) SAMCO RIE-10NR装置。8”装置。SF6, CHF3, CF4, Ar, O2によるエッチングが可能。ヘリウム背圧冷却が不要
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード 膜加工、エッチング、RIE