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装置詳細

気相フッ酸エッチング装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー IDONUS
型式
用途 膜加工・エッチング
仕様(特徴・詳細) IDONUS 8インチ装置 Vapor HF専用
気相フッ化水素(HF水溶液を蒸発)によって、選択的にシリコン酸化膜をエッチングし、可動構造体をリリースするための装置です。
独自構造によって、フッ酸に直接触れることなく、安全に利用することができます。
静電チャックによって、任意形状の基板をチャック下エッチングのほか、4,6,8インチの丸ウエーハは機械的クランプを行えます。
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード 膜加工、エッチング