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装置詳細

高密度汎用スパッタリング装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー 芝浦
型式 CFS-4ES
用途 成膜・膜堆積
仕様(特徴・詳細) 芝浦 CFS-4ES 汎用高密度 ターゲット超豊富です
サンプルサイズ: 8inch
ターゲットサイズ: 3inch ターゲット種類 : Ag, Al, Au, Cr, Cu, Ni, Ta, Ti, Pd ※, Pt, Zn, Al-Nd, AuGeNi, AuZnNi, TbFeCo, TiO2, Al2O3, GaN, SiO2, Si3N4, ITO, IZO, ZAO, ZnO
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード 成膜、膜堆積、スパッタ