1. ホーム>
  2. 装置詳細

装置詳細

8インチ汎用スパッタ装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー ULVAC
型式 SIH-450
用途 成膜・膜堆積
仕様(特徴・詳細) ULVAC SIH-450装置。
4インチウエーハ8枚、8インチウエーハ2枚導入可能。
6インチターゲット2枚、4インチターゲット1枚が可能。RFとDCスパッタリングが可能。
Al,SiO2,TiN,Taターゲットがあります。その他のターゲット導入も相談に乗ります(在庫がない場合注文から導入まで数ヶ月かかることもありますので相談はお早めに。)
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード 成膜、膜堆積、スパッタ