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装置詳細

光リソグラフィ装置MA-6

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー Suss
型式 MA6
用途 リソグラフィ・露光・描画装置
仕様(特徴・詳細) Suss MA6(両面6”まで)
精密な位置合わせ(表裏1ミクロン精度)が可能で、欠片から6インチまでの露光が可能なマスクアライナーです。普段は混合で利用していますが必要であればi線フィルターをかけることができます。
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード リソグラフィ、露光、転写