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装置詳細

超高速大面積電子線描画装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー ADVANTEST
型式 F7000S-VD02
用途 リソグラフィ・露光・描画装置
仕様(特徴・詳細) ADVANTEST F7000S-VD02
カケラから8インチ丸基板までの任意形状に対応
(厚みに制限あり。ご相談ください)
可変整形ビーム(VSBモード)による、高速描画が可能
内蔵ステンシル(CPモード)による、階段近似の無い滑らかな曲線等の高速描画が可能
データはGDS-IIストリームフォーマットから変換
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード リソグラフィ、露光、描画装置、電子線