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装置詳細

川崎ブランチ化合物用エッチング装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー Oxford Instruments
型式 100-ICP-180
用途 膜加工・エッチング
仕様(特徴・詳細) 型式番号100-ICP-180 Oxford Instruments
誘導結合プラズマ(ICP)によるエッチング装置です。
化合物半導体基板(GaAs,InP,GaN等)を得意とします。
4”丸型ウエーハ導入可能。
導入ガス種:Ar,O2,H2,CH4,N2,Cl2,SF6,He
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード 膜加工、エッチング