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装置詳細

川崎ブランチECRスパッタリング装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー (株)エリオニクス
型式 EIS-230W
用途 成膜・膜堆積
仕様(特徴・詳細) 型式番号:EIS-230W(株)エリオニクス
ターゲット材をアルゴンプラズマによってスパッタリングし、基板に製膜するスパッタリング装置です。
109と比較して高周波の高密度プラズマを用いているところが違いです。
ターゲット材は日々変動するので都度相談ください。
φ100以下の基板用
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード 成膜、膜堆積、スパッタ