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装置詳細

汎用ICPエッチング装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー ULVAC
型式 CE-300I
用途 膜加工・エッチング
仕様(特徴・詳細) 型式番号:ULVAC CE-300I
誘導性結合プラズマ(ICP)エッチング装置で、こちらは汎用装置です。
4”丸型ウエーハの入る装置です。
利用可能ガスは、アルゴン、SF6、CF4、CHF3、O2です。
主に酸化膜のエッチングや、イオンミリングによる金属のエッチングに利用しています。。
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード 膜加工、エッチング