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装置詳細

マスク・ウエーハ自動現像装置群

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー SAMCO
型式 EVG101
用途 リソグラフィ・露光・描画装置
仕様(特徴・詳細) 型式番号:EVG101(枝番1)、SAMCO FA-1(枝番3)
フォトマスク(5009)作製を行うための自動処理装置ですが、EVG101は5”マスクの現像のほか、TMAHを用いたに3~8”ウエーハ現像可
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード リソグラフィ、露光、描画、現像