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装置詳細

高速大面積電子線描画装置

機関 東京大学
施設名 武田先端知スーパークリーンルーム
メーカー ADVANTEST
型式 F5112+VD01
用途 リソグラフィ・露光・描画装置
仕様(特徴・詳細) 型式番号:ADVANTEST F5112+VD01
長方形矩形の大きさを任意に変更してショットすることのできる高速電子線描画装置。
カケラ基板から8インチ丸基板までの任意形状に対応
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 http://nanotechnet.t.u-tokyo.ac.jp/mailform/index.html
〒113-8656
東京都文京区弥生2-11-16
武田先端知ビル306号室(東京大学浅野キャンパス内)
TEL:03-5841-1506
備考
施設画像
検索キーワード リソグラフィ、露光、描画装置、電子線