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装置詳細

短波長レーザー顕微鏡[OLS-4100]

機関 産業技術総合研究所
施設名 ナノプロセシング施設
メーカー オリンパス
型式 OLS4100
用途
仕様(特徴・詳細)
非接触でサンプルの3次元表面形状の観察・測定が可能なレーザー顕微鏡です。複雑な微細形状の測定に優れ、斜面の観察性に優れています。電動ステージを搭載し、XY軸の移動精度が高いことが特徴です。また、マッピング機能が付いてるので、従来より速く広い範囲の画像取得ができるようになりました。透明膜対応フィルターにより、透明膜の測定にも有効です。

・ 型式:OLS4100
・ 倍率;最大17280倍
・ 高さ測定範囲:10mm
・ 表示分解能:0.001μm
・ フレームピクセル数:4096×4096
・ モノクロ映像:12bit
・ カラー映像:RGB各8bit、高さ測定用:24bit
・ 光学ズーム:1x~8x
・ 測定:レーザー光波長405nm、最大出力1mW
・ 観測光源:白色LED、検出系:1/1.8インチ200万画素単板CCD
・ 6穴明視野電動レボルバ
・ 微分干渉ユニット:微分干渉スライダ:U-DICR、偏光板ユニット内蔵
・ 透明膜対応フィルター
・ XYステージ:100mm×100mm電動ステージ
・ 膜厚測定ソフト
・ 粒子測定ソフト
・ エッジ自動検出測定ソフト
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 国立研究開発法人産業技術総合研究所
TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2
電話:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Eメール:tia-kyoyo-ml@aist.go.jp
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