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装置詳細

クロスセクションポリッシャ(ALD付帯)

機関 産業技術総合研究所
施設名 ナノプロセシング施設
メーカー 株式会社日立ハイテクノロジーズ
型式 IM4000
用途
仕様(特徴・詳細) 日立ハイテクノロジーズ社製 IM4000[断面ミリングオプション]型
イオンガン(アルゴンビーム照射)と高イオンビーム耐性マスク(金属板)を使用して、走査型電子顕微鏡(SEM)等による試料内部構造の観察や分析のための断面試料を作製することができます。劈開や研磨では加工が難しいような、硬度やミリングレートが異なる構成の複合
材料でも可能となります。また、専用治具へ交換することでフラットミリングを行うこともできます。

イオンガン:冷陰極ペニング型
使用ガス:アルゴン
加速電圧:1~6kV
放電電圧:1.5kV
断面ミリングレート:100~300?m/h (加速電圧6kV時) ※材料により異なる
断面ミリングの最大試料サイズ:20mm(W)×12mm(D)×7mm(H)
スイング角度:OFF~±40°
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 国立研究開発法人産業技術総合研究所
TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2
電話:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Eメール:tia-kyoyo-ml@aist.go.jp
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