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装置詳細

抵抗加熱型真空蒸着装置

機関 産業技術総合研究所
施設名 ナノプロセシング施設
メーカー ビームトロン
型式
用途
仕様(特徴・詳細)
ボート等の抵抗体に金属や化合物などの成膜材料を入れ、電流を流して加熱、蒸発させることにより、材料を基板上に成膜します。3種類の材料をセット可能なので多層膜の作成も可能です。全て手動操作であり、また成膜室が小さいので基板やソースをセットしてから蒸着するまでの真空引きのための待機時間が短く、手軽に成膜出来ます。高沸点材料や熱伝導率の高い材料では、ソースからの輻射熱が多くなり、条件によっては100 ℃を超えるため、非耐熱性基板では注意を要します。
●蒸着方式:抵抗加熱蒸発
●蒸発源:3ポート
●加熱抵抗体:平板ボート、コイル、バスケット
●基板ホルダ:最大試料サイズΦ100 mm、傾斜可能±15°
●蒸発源―基板間:250 mm
●試料導入:手動
●真空排気:手動、到達圧力5×10^-5 Pa以下
●成膜:手動制御 基板シャッター開閉及びヒーター電力調整、水晶振動子膜厚モニタ付
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 国立研究開発法人産業技術総合研究所
TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2
電話:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Eメール:tia-kyoyo-ml@aist.go.jp
備考
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