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装置詳細

高密度プラズマCVD装置

機関 産業技術総合研究所
施設名 スーパークリーンルーム
メーカー Novellus systems
型式 Concept 3 Speed
用途 成膜装置
仕様(特徴・詳細) 用途: プラズマ成膜装置(HDP-CVD、Non-Metal、Metalライン)
特徴: バイアス印加による埋め込みSiO2成膜
対応基板: φ300mmシリコン基板専用
装置番号: M03-01
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 国立研究開発法人産業技術総合研究所
TIA推進センター共用施設運営ユニット スーパークリーンルームステーション
〒305-8569 茨城県つくば市小野川16-1 西7 SCR棟
電話:029-849-1530 FAX:029-849-1533 Eメール:scr_contact-ml[@]aist.go.jp
(メールでお問い合わせ頂く際は[ ]を外してメールしてください)
備考 利用単価は【利用方法】の項目のリンク先にあります
施設画像
検索キーワード 加工装置