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装置詳細
集束イオンビーム加工観察装置(FIB)
機関 | 産業技術総合研究所 |
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施設名 | ナノプロセシング施設 |
メーカー | 日立ハイテク |
型式 | FB-2100 |
用途 | 加工、観察 |
仕様(特徴・詳細) | この装置はガリウムイオンビームを集束・走査することで特定の微小領域を微細加工するものです。 2次電子像を観察しながら断面試料やTEM試料等を作製することが可能です。 タングステン膜の形成も可能であり、ガリウムイオンビームを走査して任意の場所にタングステン配線やタングステン保護膜を形成することができます。 そのほか任意形状の加工やビーム電流可変により試料に合わせた加工・観察が可能です。 ・型式:FB-2100 ・イオン源:ガリウム液体金属イオン源 ・加速電圧:10 ~ 40 keV ・像分解能:6 nm ・ビーム径:1.3 μm, 600 nm, 300 nm, 160 nm, 80 nm, 40 nm, 10 nm 原理(ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会監修) http://www.tsc-web.jp/map/pdf/FIB.pdf 日立ハイテクの集束イオンビーム加工観察装置解説ページ http://www.hitachi-hitec.com/science/fib/fb2200.html |
利用方法 | 詳しくはこちらをご覧下さい |
問合せ先 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション 〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2 電話:029-861-3210 FAX:029-861-3211 Eメール:tia-kyoyo-ml@aist.go.jp |
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