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装置詳細

プラズマアッシャー (リソグラフィ付帯装置)

機関 産業技術総合研究所
施設名 ナノプロセシング施設
メーカー ヤマト科学
型式 PR500
用途 アッシング
仕様(特徴・詳細) この装置は、石英チャンバー内で酸素プラズマを発生させることにより、有機物のフォトレジストをCO2とH2Oに分解・酸化させて除去するものです。
・型式:PR500
・高周波電源:最大500 W
・反応槽:石英チャンバーΦ215 mm×305 mm(高さ)
・放電時間設定:0.1秒~999時間
・使用ガス:O2、パージ用N2ガス

ヤマト科学のプラズマアッシャー解説ページ
http://www.yamato-net.co.jp/product/science/plasma/reactor/pr500510.htm
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 国立研究開発法人産業技術総合研究所
TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2
電話:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Eメール:tia-kyoyo-ml@aist.go.jp
備考

付帯装置
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検索キーワード プラズマアッシャー ドライ洗浄装置