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装置詳細

イオンコーター (FIB付帯)

機関 産業技術総合研究所
施設名 ナノプロセシング施設
メーカー 日立ハイテク
型式 E-1030
用途 成膜
仕様(特徴・詳細) 走査電子顕微鏡観察において、導電性のない試料を観察する際の帯電障害(チャージアップ)を防止するために、Ptあるいはカーボンコーティングをするための装置です。
・型式:E-1030
・放電方式:ダイオード放電マグネトロン形(電場・磁場直交形)
・電極形状:対向平行円板(マグネット埋込み)
・電圧:電圧DC 0.4 kV(固定)
・電流:電流DC 0~35 mA(リミット回路付き)
・コーティングレート:最大 毎分6.5 nm (Pt)
・試料サイズ:最大直径:55 mm、最大高さ:20 mm
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 国立研究開発法人産業技術総合研究所
TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2
電話:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Eメール:tia-kyoyo-ml@aist.go.jp
備考

付帯装置
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