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装置詳細
コンタクトマスクアライナー(MJB4)
機関 | 産業技術総合研究所 |
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施設名 | ナノプロセシング施設 |
メーカー | SUSS MicroTec |
型式 | |
用途 | パターン露光 |
仕様(特徴・詳細) | 5種類の露光モードを持ち、サブミクロン域までの露光や高精度なアライメント露光が可能な、コンタクト方式高性能手動マスクアライナです。 基板は4インチウェハまで対応し、破片状の小片基板なども処理できます。 フォトマスクは、ホルダーのガイド位置を変えれば、2.5~5インチマスクまで取り付けることが可能です。 ・基板サイズ:2インチ~4インチ、不定形小片~100 mm ・解像度 :約800 nm(バキュームコンタクト使用時) ・波長 :g線・照度 :約40 mW/cm2 ・露光モード:プロキシミティ、ソフトコンタクト、ハードコンタクト、ソフトバキュームコンタクト、バキュームコンタクト ・露光領域 :2.5~5インチ対応マスクホルダー 最大40 mm□ ・4インチ,5インチ対応マスクホルダー 最大75 mmφ |
利用方法 | 詳しくはこちらをご覧下さい |
問合せ先 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション 〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2 電話:029-861-3210 FAX:029-861-3211 Eメール:tia-kyoyo-ml@aist.go.jp |
備考 | |
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