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装置詳細
反転露光用全面UV照射装置
機関 | 産業技術総合研究所 |
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施設名 | ナノプロセシング施設 |
メーカー | 共和理研 |
型式 | K-310P100S |
用途 | パターン露光 |
仕様(特徴・詳細) | ・型式 : K-310P100S ・露光源 : ウシオ電機マルチライト 超高圧水銀ランプ ・主波長 : 365 nm(i線) ・照度 : 約32 mW/cm2 ・露光モード : コンタクト方式 ・ウェハサイズ : 小片基板~4インチ ・露光領域 : 最大85 mm□ 共和理研のマスクアライメント露光装置解説ページ http://www.kyowariken.co.jp/k310p.htm |
利用方法 | 詳しくはこちらをご覧下さい |
問合せ先 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション 〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2 電話:029-861-3210 FAX:029-861-3211 Eメール:tia-kyoyo-ml@aist.go.jp |
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