装置詳細

反転露光用全面UV照射装置

機関	産業技術総合研究所
施設名	ナノプロセシング施設
メーカー	共和理研
型式	K-310P100S
用途	パターン露光
仕様（特徴・詳細）	・型式 : K-310P100S ・露光源 : ウシオ電機マルチライト超高圧水銀ランプ・主波長 : 365 nm(i線) ・照度 : 約32 mW/cm2 ・露光モード : コンタクト方式・ウェハサイズ : 小片基板～4インチ・露光領域 : 最大85 mm□ 共和理研のマスクアライメント露光装置解説ページ http://www.kyowariken.co.jp/k310p.htm
利用方法	詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先	国立研究開発法人産業技術総合研究所 TIA推進センタープラットフォーム運営ユニット共用施設ステーション〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第２電話：029-861-3210 FAX：029-861-3211 Eメール：tia-kyoyo-ml@aist.go.jp
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