1. ホーム>
  2. 装置詳細

装置詳細

微小部蛍光X線分析装置(XRF)

機関 産業技術総合研究所
施設名 ナノプロセシング施設
メーカー 株式会社日立ハイテクサイエンス
型式 SEA5120A
用途 計測
仕様(特徴・詳細) 型式:SEA5120A
・分析元素:Na~U、Si(Li)半導体検出器(LN2冷却)、RhX線管励起、上部垂直照射
・コリメータ:φ0.1;1;2.5 mm、最大試料サイズ:80 x 80 x 35 (mm)、試料形態:固形;薄膜、雰囲気:大気;真空
・定性、バルク分析(FP法、検量線法)、薄膜分析(FP法、検量線法)、元素マッピング、レポート作成ソフト
原理(ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会監修)
微小部蛍光X線分析装置(XRF)

http://www.tsc-web.jp/map/pdf/XRF.pdf

日立ハイテクの蛍光X線分析装置回折ページ
http://www.hitachi-hitec-science.com/products/xrf/xrf_analysis.html
利用方法 詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先 国立研究開発法人産業技術総合研究所
TIA推進センター プラットフォーム運営ユニット 共用施設ステーション
〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第2
電話:029-861-3210
FAX:029-861-3211
Eメール:tia-kyoyo-ml@aist.go.jp
備考
施設画像
検索キーワード