装置詳細

マスクレス露光装置

機関	産業技術総合研究所
施設名	ナノプロセシング施設
メーカー	ナノシステムソリューションズ
型式
用途	パターン露光
仕様（特徴・詳細）	露光パターン発生用の空間光変調器にDMD(Digital Micromirror Device)を用いたマスクレス方式の露光装置です。フォトマスクを使用せずに、CADデータ(GDSII形式)にした任意の形状を基板上のフォトレジストに直接パターニングすることができます。光源は波長405 nmのLEDです。露光最小画素は□1 μm、最大露光領域は□100 mm、重ね合わせ精度は±1 μmです。株式会社ナノシステムソリューションズのマスクレス露光装置解説ページ http://www.nanosystem-solutions.com/product/maskless.html
利用方法	詳しくはこちらをご覧下さい
問合せ先	国立研究開発法人産業技術総合研究所 TIA推進センタープラットフォーム運営ユニット共用施設ステーション〒305-8568 茨城県つくば市梅園1-1-1 中央第２電話：029-861-3210 FAX：029-861-3211 Eメール：tia-kyoyo-ml@aist.go.jp
備考
施設画像
検索キーワード	パターン露光マスクレスデジタルマイクロミラーデバイス