- ホーム>
- 装置一覧
装置一覧
機関・施設で絞り込む
スペース区切りでキーワード追加するか、機関や施設を選択し、AND検索によって検索結果を絞り込むことができます。
検索条件をクリアするには、ページ上部の「施設から装置検索」か「分類から装置検索」をクリックしてください。
分類【分光】 装置一覧(82件)
施設名 | 装置名称/手法 | 仕様 | 用途 |
---|---|---|---|
大強度陽子加速器施設 物質・生命科学実験施設(J-PARC MLF) | 汎用μSR実験装置 | スピン回転・緩和による対象物質の電子状態の観測、あるいは対象物質中に導入した水素の電子状態シミュレーションなど | |
大強度陽子加速器施設 物質・生命科学実験施設(J-PARC MLF) | ミュオン物質生命科学実験装置 | スピン回転・緩和による対象物質の電子状態の観測、あるいは対象物質中に導入した水素の電子状態シミュレーションなど | |
大強度陽子加速器施設 物質・生命科学実験施設(J-PARC MLF) | 偏極中性子散乱装置(POLANO) | 原子・分子のスピン、軌道、電荷(に伴う構造変化)、格子のダイナミクス測定 | |
大強度陽子加速器施設 物質・生命科学実験施設(J-PARC MLF) | 冷中性子ディスクチョッパー型分光器 (AMATERAS) | 原子、分子、磁性の動的性質を比較的低いエネルギー領域において運動量-エネルギー空間を高分解能で走査する非弾性散乱装置 | |
大強度陽子加速器施設 物質・生命科学実験施設(J-PARC MLF) | 高分解能チョッパー分光器 (HRC) | 物質の磁気励起や格子振動などの素励起を比較的高いエネルギーの中性子を用いて高分解能で測定する中性子非弾性散乱装置 | |
大強度陽子加速器施設 物質・生命科学実験施設(J-PARC MLF) | 中性子共鳴スピンエコー分光器群(VIN ROSE) | 中間相関関数I(Q,t)を直接評価する事が可能で、ピコ秒からの広い時間領域の原子分子ダイナミクス測定が可能。 | |
大強度陽子加速器施設 物質・生命科学実験施設(J-PARC MLF) | ダイナミクス解析装置 (DNA) | ダイナミクス解析装置DNAは,Si完全結晶ウエハをアナライザーに用いた背面反射型分光器である. DNAは原子,分子,スピンのピコ秒からナノ秒に及ぶ運動を調べることができ,生体物質の機能解明,高分子等のソフトマター,電池材料,触媒材料等の機能性材料の開発,磁性物質の研究など産業応用から基礎研究まで幅広い分野をカバーする. | |
大強度陽子加速器施設 物質・生命科学実験施設(J-PARC MLF) | 4次元空間中性子探査装置 (4SEASONS・四季) | スピンおよび格子の動的性質を運動量-エネルギーの4次元空間にわたって高効率で観測する装置 | |
身体動作解析産業プラットフォーム(MAP) | 脳機能測定装置(光脳機能イメージング装置、NIRS) | 測定方式:近赤外光の生体内散乱・吸収・反射の計測 オキシ/デオキシ/トータルのヘモグロビン変化指数測定 計測部位 :前額、側頭、頭頂 送受光数 :8組 測定Ch数 :22ch その他 :バッテリー駆動、モバイル計測 |
身体機能・製品評価、医療・ヘルスケア情報、リハビリテーション、スポーツ |
先端ナノ計測施設(ANCF) | ピコ秒可視・近赤外過渡吸収分光装置 | 200 fsの時間分解能、240 ~ 11000 nmの観測波長領域、<0.001の吸収測定精度を有する、過渡吸収分光装置です。 固体中キャリア寿命、界面電荷分離反応の速度・収率、励起子拡散長を評価します。 ●測定モード:透過・正反射・拡散反射型ポンプ‐プローブ法 ●励起光:100 ~ 150 fsパルス、波長240 ~ 2400 nm ●測定雰囲気:室温大気中(特殊環境は要相談) |
過渡吸収分光装置固体中キャリア寿命、界面電荷分離反応の速度・収率、励起子拡散長の測定 |
先端ナノ計測施設(ANCF) | ナノ秒可視・近赤外蛍光寿命計測装置 | 液体、溶液、結晶、フィルムなどの蛍光スペクトルと蛍光寿命を測定する装置。 励起光源にレーザーダイオードを用いており、非常に簡便に計測ができる。 寿命測定は時間相関単一光子計数法を用いており、弱い励起条件での計測が可能である。 温度は常温のみ。 ●時間分解能:約500 ps ●励起波長:405 nm ●測定波長範囲:420 nm~1400 nm |
蛍光スペクトル及び蛍光寿命の測定 |
先端ナノ計測施設(ANCF) | ピコ秒可視蛍光寿命計測装置 | この装置は、40 psの時間分解能、時間レンジ1 ~ 100 ns、400 ~ 900 nmの観測波長領域を有する、時間分解蛍光スペクトル測定装置です。 固体中励起子寿命、励起子拡散長、色素分子蛍光寿命を評価できます。 ●形式: C4334-01 ●励起光:150 fsパルス、波長240 ~ 800 nm ●測定雰囲気: 室温大気中(特殊環境は要相談) |
時間分解蛍光スペクトル測定固体中励起子寿命、励起子拡散長、色素分子蛍光寿命の測定 |
先端ナノ計測施設(ANCF) | ナノ秒可視・近赤外過渡吸収分光装置 | 液体、溶液、結晶、フィルムなどの過渡吸収スペクトルと減衰挙動を測定する装置。 励起光源にYAGレーザーの第2 ~ 3高調波を用いており、様々な測定対象に対応可能である。 従来装置と比べて測定感度が高いことが特徴であり、吸光度変化として0.001程度の計測が可能である。 ●時間分解能: 1 ns程度 ●励起波長: 355、532 nm ●測定波長範囲: 400 nm~1600 nm ●測定雰囲気:-80°C ~ 室温 ~ +100°C |
液体、溶液、結晶、フィルムなどの過渡吸収スペクトルと減衰挙動の測定 |
先端ナノ計測施設(ANCF) | 極端紫外光光電子分光装置(EUPS) | 産総研自主開発:レーザー生成プラズマを用いて生成したパルスEUV光を試料を照射した際に放出される光電子のエネルギーを計測することにより、試料最表面(0.5 nm程度)の電子状態を分析する装置。 絶縁物、導体表面からの光電子のエネルギースペクトルのシフトから、試料表面の汚染状態を評価する、世界で唯一の表面分析装置。 ・ナノ秒可視・近赤外蛍光寿命計測装置 ●EUV光子エネルギー:255.17eV ●EUV光子スペクトル幅~0.1eV ●EUVパルス幅:3nsec ●試料上ビーム径:50~100μm ●絶縁薄膜、有機薄膜を帯電させること無く測定可能 測定可能な物理量 ●バンド曲がり ●二次電子スペクトルで真空準位 ●ナノ粒子表面の汚染度 ●電子雲の傾斜角(π、σ電子識別)原理、測定例をEUPSのHP (http://staff.aist.go.jp/t-tomie/EUPS)で紹介 |
|
先端ナノ計測施設(ANCF) | 超伝導蛍光収量X線吸収微細構造分析装置(SC-XAFS) | 産総研自主開発:エネルギー分散超伝導検出器を搭載し、母材中の微量軽元素や重い元素のL、M線のX線吸収微細構造測定により、特定の微量元素の原子スケール構造解析を行う。 米ALSに同様の装置があるのみ。 省エネ半導体ドーパント、酸化物、磁性体などの原子配位や電子状態を評価。 ・蛍光X線エネルギー分解能: 10 eV ・エネルギー範囲:100 eV ? 15 keV (1 keV以下は超伝導、以上は半導体) ・光子計数率: 1 Mcps ・液体ヘリウムを使用せず自動冷却(0.3 K) 原理(ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会監修) X線吸収微細構造法(XAFS) http://www.tsc-web.jp/map/pdf/XAFS.pdf |
X線吸収微細構造法(XAFS)、X線吸収分光法(XAS) |
ナノプロセシング施設(NPF) | オゾンクリーナー(SIMS付帯) | ・電源:AC100V 50/60Hz ・ランプ:110W低圧水銀ランプ ・ランプ波長:185nm、254nm ・照射距離:ランプ下面より0?80mm(手動可変タイプ) ・照射エリア:150×150mm ・オゾン排気構造:別置きブロワーによる強制排気方式(オゾン吸着材封入) 短波長紫外線で固体の表面改質・乾式洗浄を行うクリーナーです。二種類の短波長紫外線(185、254nm)により空気中の酸素をオゾン化し有機物を除去します。サンプル表面へのダメージは極めて少なく、良好な表面が得られます。光源は手動による可変タイプのため、表面分析の前処理をin-situ(測定前室)で行うことが可能です。 ※2F(一般実験実)でのご利用となります。 |
|
ナノプロセシング施設(NPF) | エックス線光電子分光分析(XPS)装置 | エックス線光電子分光分析(XPS)装置 ・X線源 Rowland 円直径 500 mm モノクロメータ付Al Kα (1486.6 eV) ・光電子分光器 軌道半径165 mm静電二重半球型アナライザー/球面鏡アナライザー複合型 ・検出器 ディレイラインディテクター(DLD)システム ・スペクトル分析 100チャネル同時計測 ・メージング 256 × 256画素(最大分解能3 μm) ・最小スペクトル分析面積 15 μmΦ ・エネルギ分解能 Ag 3d5/2光電子ピークが半値幅0.48 eV以下 ・帯電中和 均一低エネルギー電子照射 ・試料サイズ 110 mmΦ, 高さ10 mm (専用ホルダ使用で約20 mm迄可) ・光電子取り出し角度 垂直(標準), 0~90°(傾斜観察ホルダ使用)* 傾斜観察時は試料サイズの制限があります。 ・エッチングイオン銃 Ar+, 多原子(コロネンC24H12 )イオン ・搭載オプション He紫外線光源(UPS用 21.2, 40.2 eV)トランスファーベッセル 島津製作所によるAXIS Nova解説ページ http://www.an.shimadzu.co.jp/surface/xps/nova/index.htm 原理(ナノエレクトロニクス計測分析技術研究会監修) エックス線光電子分光分析(XPS) http://www.tsc-web.jp/map/pdf/XPS.pdf |
エックス線光電子分光分析(XPS) |
ナノプロセシング施設(NPF) | UVクリーナー (リソグラフィ付帯装置) | UV(紫外線)を用いたドライ洗浄装置。 ・UVランプ:110W x 1 (peak wavelength 253.7 nm , 184.9 nm) ・試料ステージ温調機能:室温~300 ℃・オゾン発生器 サムコ社のUVクリーナー解説ページ http://www.samco.co.jp/aboutus/primer/2011/03/post_4.php |
洗浄 |
ナノプロセシング施設(NPF) | 顕微フーリエ変換赤外分光装置(FT-IR) | 赤外分光法を利用し、試料の定性・定量解析を行うフーリエ変換装置です。 レーザーラマン同様、コンフォーカル機能を搭載した光学顕微鏡システムとの組み合わせにより、高分解能な微小領域解析が可能となっています。 またレーザーラマンとの相補的な評価により、より高度な定性分析が可能です。 ・型式: Nicolet6700、Continuum ・測定波長範囲:350 ? 12500 cm-1、600 ? 11700 cm-1(顕微使用時)・最高分解能:0.09 cm-1 ・オートステージ機能搭載 サーモフィッシャーサイエンティフィック社の赤外顕微鏡解説ページ http://www.thermoscientific.jp/ft-ir-raman/nicolet-continuum.html |
計測 |
MEMS研究開発拠点(MEMS) | フーリエ変換赤外分光装置 | 試料サイズ:8インチ標準 赤外スペクトル測定波数:4000~500cm-1 顕微測定径:最小10ミクロン SOI膜厚測定、PSG.BPSG分析機能 |
評価装置 |
MEMS研究開発拠点(MEMS) | 赤外線顕微鏡 | ウェハ寸法:8インチ、機能:赤外線光源による顕微観察、画像処理機能付属 | 評価装置(後工程) |
MEMS研究開発拠点(MEMS) | i-線ステッパ | 試料サイズ: 8インチウェハ i-線(紫外線)によるレチクルパターンの1/5縮小投影露光 最小解像線幅:0.35μm 使用レチクル:6インチ角 標準レジスト厚さ:1μm |
リソグラフィ装置 |
MEMS研究開発拠点(MEMS) | 赤外線レーザ顕微鏡 | ウェハ寸法:最大12インチウェハ、機能:赤外線レーザによる共焦点顕微観察、各種表面プロファイル分析 | 評価装置(前工程) |
MEMS研究開発拠点(MEMS) | レーザ顕微鏡 | ウェハ寸法:最大12インチウェハ、機能:可視光線レーザによる共焦点顕微観察、各種表面プロファイル分析、光源波長:405nm | 評価装置(前工程) |
スーパークリーンルーム(SCR) | 赤外線顕微鏡システム | 用途: 接合ウェハの接合状態評価 特徴: 接合アラインメント評価に利用される 対応基板: φ300mmシリコン基板専用 装置番号: P08-112 注意:プロセス装置をご利用になられる方のみに利用提供している装置です |
3D実装評価装置 |
スーパークリーンルーム(SCR) | 赤外線拡大鏡 | 用途: 接合ウェハの接合状態評価 特徴: 接合強度評価に利用される 対応基板: φ300mmシリコン基板専用 装置番号: P08-114 注意:プロセス装置をご利用になられる方のみに利用提供している装置です |
3D実装評価装置 |
スーパークリーンルーム(SCR) | X線光電子分光分析装置 | 用途: 試料表面に存在する元素と原子価、結合状態を分析する装置 特徴: 単色Al Kα線を用いたXPSスペクトル測定が可能 対応基板: 小片基板 装置番号: AF08-14 |
分析 |
スーパークリーンルーム(SCR) | IR-OBIRCH解析装置 | 用途: 故障個所特定装置 特徴: 近赤外レーザー光を使用したOBIRCH解析によりICチップ内部のショート、リーク、高抵抗等の不良箇所の絞り込みに利用 対応基板: φ300mm 装置番号: B10-06 |
分析 |
スーパークリーンルーム(SCR) | 赤外分光分析装置 | 用途: フーリエ変換赤外分光光度計 特徴: 赤外光の吸収スペクトル測定を行う 対応基板: 小片基板 装置番号: J03-114 |
分析 |
材料分析ステーション(MAS) | X線光電子分光分析装置 | ・走査型単色Alka集束X線源 ・最小X線ビーム径:<10 μm ・X線源パワー:1~100 W ・エネルギー分解能:<0.5 eV(Ag 3d5/2) ・最大感度:>3 Mcps, 1.3 eV FWHM (Ag 3d5/2) |
・金属、半導体、有機物等の表面分析 |
材料分析ステーション(MAS) | 酸素窒素水素分析装置、炭素硫黄分析装置 | 酸素・窒素・水素解析部はインパルス加熱/赤外線検出方式及び熱伝導度検出方式である。 分析範囲:[酸素]10 ppm~3%, [窒素]10 ppm~3%(試料重量1g時) [水素]10 ppm~2500ppm(試料重量1g時) 炭素・硫黄解析部は高周波加熱炉/赤外線検出方式である。 分析範囲:[炭素]10 ppm~6%, [硫黄]10 ppm~6% (試料重量1g時) |
・金属,セラミックス中のガス成分分析 |
材料分析ステーション(MAS) | 走査型硬X線光電子分光分析装置 | ・硬X線(Cr Kα線)と軟X線(Al Kα線)の単色化2線源を搭載 ・ガスクラスターイオン銃(GCIB) ・加熱・冷却・電圧印加機構搭載 ・トランスファーベッセル付属 |
各種固体試料(合金・半導体を含む無機化合物・有機物)の表面における ・元素分析 ・定量分析 ・化学状態分析 |
ナノテクノロジー融合ステーション (千現ファウンドリ)(NFP) | 赤外線ランプ加熱装置 | 加熱方式:放物面反射赤外線ランプによる上部片面加熱方式 プロセス温度:1200℃以下 昇温速度:10℃/秒以下 プロセスガス:Ar, N2, Ar;H2(3%) 試料サイズ:最大φ6インチ |
小片~φ6インチの急速アニール |
ナノテクノロジー融合ステーション (千現ファウンドリ)(NFP) | ウエハRTA装置 | ・加熱方式 赤外線ランプ加熱方式 ・プロセス温度 1250度以下 ・昇温速度 150度/秒以下@Siウエハ、40度/秒以下@SiCサセプタ ・プロセスガス 22, Ar, Ar+H2(3%), O2 ・試料サイズ 最大φ6インチ |
・小片~φ6インチの急速アニール |
ナノテクノロジー融合ステーション (千現ファウンドリ)(NFP) | UVオゾンクリーナー | ・光源:紫外線ランプ(184.9nm&253.7nm) ・ステージ温度:室温~300℃ ・試料サイズ:最大φ8インチ |
・基板洗浄 ・表面改質 |
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ) | 紫外可視近赤外分光光度計V-770 | ・波長範囲:190~3200nm ・バンド幅:0.4~10nm可変 ・測光範囲:±3Abs ・測定対象:液体、粉体、フィルム |
透過率測定 反射率測定 |
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ) | エキシマクリーナー | ・光源:172nmエキシマ紫外線ランプ ・ステージ温度:室温~200℃ ・試料サイズ:最大φ4インチ |
・基板洗浄 ・表面改質 |
ナノテクノロジー融合ステーション (並木ファウンドリ) | RTA(赤外線急速アニール炉:6inch) | ・温度範囲:室温~1000℃ ・加熱方式:赤外ゴールドイメージ炉、9ゾーン制御 ・加熱性能:最大 10℃/s ・プロセスガス:22, Ar+H2(3%), Ar, O2, 真空置換機能あり ・試料台材質・サイズ:SiCコートグラファイト、6インチφ |
・微細加工(熱処理) |
ナノテクノロジー融合ステーション (ナノバイオ)(NIMS-ARIM材料評価分野) | フーリエ変換赤外分光光度計 | ・スペクトル範囲 7800~200cm-1 ・スペクトル範囲 7800~350cm-1(アタッチメントにより異なる) ・分離能 最高0.25cm-1 ・SN比 最大60000:1 |
・材料の分子レベル解析 (分子構造の決定、物質の同定に用いる) |
蓄電池基盤プラットフォーム | FTIR(フーリエ変換赤外分光装置) | メーカー名:Thermo Scientific 型式:Nicolet iS50 |
物質の分子構造や未知試料の定性・定量分析 |
蓄電池基盤プラットフォーム | XPS(X線光電子分光装置) | メーカー名:ULVAC-PHI 型式:VersaProbe II |
H、He以外のすべての元素の定性・定量、化学結合状態の分析 |
蓄電池基盤プラットフォーム | HAXPES | メーカー名:Omicron Nano Technology、ULVAC-PHI(光源) 型式:特型 |
硬X線源を用いたX線光電子分光 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | MALDI型質量分析装置 | MALDI-TOFMS は,MALDI[Matrix Assisted Laser Desorption Ionization]とTOFMS[Time of Flight Mass Spectrometry]を組み合わせたマトリックス支援レーザー脱離イオン化-飛行時間型質量分析計であり、イオン化しにくい成分(難揮発性,難溶解性物質)等の質量を測る手法である。特に生体高分子(タンパク質や糖質)等をソフトな条件でイオン化し正確な質量測定を可能とする。 MALDIは,分析試料とマトリックス(レーザー光を吸収する化合物)を混合した後、紫外レーザー光[Nd:YAG laser ;349 nm]を照射すると試料はイオン化され、高真空(10-8torr)中で一定距離を飛行する時間を測定して質量を算出する. TOF-MSの測定モードには,イオンを直線的に飛行させる「リニア(Linear)モード」と直線的に飛行させた後に静電界ミラーを用いて反転(反射)させる「リフレクター(Reflector)モード」がある.AB SCIEX TOF/TOF 5800システムの特徴は、○Positive and negative ion detection;[正(+)イオン&負(-)イオン;検出]○1000-Hz high speed laser;超高速イオン化を実現.○直行レーザー照射機構により①Reflector mode [Mw;≒400~≒5,000Da];高分解能・高精度MS測定と、②Linear mode[Mw;≒3,000~≒200,000Da];分解能・質量精度に劣るが数万~数十万Daまで質量測定を可能とし、Reflector modeで③MS/MS 測定を可能とする。設置年月日2010.04.23 | 電磁気分析装置 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR) | 干渉法によって7000~400cm-1の範囲の赤外光の吸収スペクトルを測定する装置.物質の同定などの定性分析および吸収帯の強度による定量分析に利用できる.本装置での分解能は測定領域全体について1, 2, 4, 8, 16 (標準4)cm-1である.設置年月日1994.3.17 | 光分析装置 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | フーリエ変換赤外分光分析装置 Spectrum One(B) | ATR法により固体、液体の赤外吸収スペクトルを測定する。 | 光分析装置 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | ルミノ・イメージアナライザ LAS-4000 | ※ [No. 1]装置と[No. 2]装置のCDドライブは、フォーマットが異なるようです。装置毎にCDをご準備ください。 ゲル電気泳動、メンブレンへのブロッティング及びハイブリダイゼーション等は必要不可欠かつ基礎的な定量定性解析手法である。本システムはサンプルの画像を化学発光法、可視検出法により簡便かつ目的の感度で検出することが可能である。 ・ 320万画素スーパーCCDハニカムカメラを搭載 ・ 解像度と感度を変更することができ、最大630万画素の画像出力が可能 ・ F値 0.85で微弱光を高感度に検出可能なレンズ ・ 4桁のダイナミックレンジ、16-bitの階調数を有する ・ サンプルとしてメンブレン等が使用できる ・ ビニング機能を有する ・ オートフォーカス機能、および自動露出時間設定機能を有し、簡便・確実に測定可能 ・ ゲル、メンブレン、TLC、コロニーカウント等のサンプルに対応した解析ソフトウェアを有する 設置年月日 2009.3.6 |
生体物質解析装置 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | 可視紫外近赤外分光光度計(UV) | 波長領域190~3200nmにわたって波長を連続的に変えながら,光を試料溶液に照射し,その吸収スペクトルから化合物の定量・定性分析を行う装置.測定には、試料溶液約5mlを必要とし、その濃度は通常1mg~100mg/ml程度であり、溶媒として各種有機溶媒,水,硫酸等が利用できる.設置年月日1995.3.10 | 光分析装置 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | 共焦点蛍光顕微鏡 | レーザー光を試料に照射し、2次元[XY]及び3次元[XYZ]方向に高い空間分解能をもつ透過画像や蛍光画像を得て、試料中における無機,有機,蛍光物質の空間分布、動的挙動を計測する装置である。高精度・高分解能なシステムにより、レーザー光によって励起された蛍光シグナルを焦点面のみで検出するため、高解像度の画像を取得でき、XY断層画像を連続して取得することで、三次元(3D)構造の解析ができる。また、透過光像(微分干渉画像)と重ね合わせると、検出した分子の細胞・組織内のより正確な局在などを知ることができる。更に、光刺激とイメージングを同時に行うことができ、フォトブリーチングでは、例えば生細胞内におけるタンパク質の機能の可視化を可能とする。加えて、2次元[XY]+タイムスキャン測定(XYT)や2次元[XY]+波長スキャン測定(XYλ)測定を可能とする装置である。FLUOVIEW-FV1000-Dの特長;○ダイオードレーザ[LD]の採用により、高い安定性、長寿命、低ランニングコストを実現。○搭載のLDレーザは青色蛍光~近赤外蛍光まで幅広く対応[搭載レーザー 405、473、559、635nm]。装置仕様;○顕微鏡 IX81‐ZDC(倒立・フォーカス補正機能付き)、○レーザー走査方式;ガルバノミラー×2、○対物レンズ;UPLSAPO;10X,20X,40X(Dry),UPLSAPO;60X(Oil), 60X(H2O),60X(シリコーンOil)、○スキャナー 分光タイプ ○検出器 蛍光4CH,透過1CH 、○電動ステージ、試料ステージ[温度調節機能付サーモプレート]<設置年月日2010.05.01> | 電磁気分析装置 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | 近赤外蛍光イメージングシステム (ODYSSEY CLx) | (基本仕様) 近赤外蛍光スキャナーシステム 検出方式: アバランシュフォトダイオード スキャンエリア: 25 cm × 25 cm ダイナミックレンジ: 4桁(マニュアルモード選択時)、6桁 (オートモード選択時) 光源: 685 nm, 785 nm 固相レーザー 解像度: 21 - 337 m (特徴) ODYSSEY CLx システムは生物由来の夾雑物やゲル、ガラスプレートなどターゲット以外の様々な物質による自家蛍光が低レベルの為、2 Color ウエスタンブロットをはじめ、ゲルシフトアッセイ、セルベースアッセイ、CBB染色ゲル観察、切片観察など様々なアプリケーションにおいて検出感度と定量性の良いデータを提供します。 特にウエスタンブロットアプリケーションでは、時間経過により減衰のない安定したシグナル強度とハウスキーピングタンパクやトータルプロテインによるターゲットバンド補正により、信頼性および再現性高いデータを容易に得ることができます。 設置年月日 2017.12.21 |
生体物質解析装置 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | (パワエレ共用)超高温炉 SR1800TS | 特徴 ・ 真空中で試料加熱を行うことができ、最大昇温速度は300℃/sec、1800℃まで30秒以内で到達することができます。 ・ 昇温速度、熱処理時間等をプログラムすることが可能なため、詳細な熱処理条件の設定ができます。 ・ 装置内へのガス導入にも対応していますので、真空のみならず、様々な雰囲気下での熱処理が可能です。 ・ 試料ホルダーはグラファイト製に加え、石英製も備えられておりますので、酸化性雰囲気での熱処理も可能です。 仕様 加熱方式:赤外線導入加熱方式、最高到達温度:1800℃、最大昇温速度:300℃/sec、最大到達真空度:5 x 10-5 Pa、加熱面積:φ15mm. 取得年月日 2014.3.12 |
専用測定装置 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR) | 干渉法によって7800~350cm-1の範囲の赤外光の吸収スペクトルを測定する装置.物質の同定などの定性分析および吸収帯の強度による定量分析に利用できる.本装置での分解能は測定領域全体について0.07, 0.25, 0.5, 1.0, 2.0, 4.0, 8.0, and 16.0 (標準 4) cm-1である.設置年月日2019.2.28 | 光分析装置 |
オープンファシリティー推進機構(UTOF) | 紫外可視分光光度計 V-650 | 波長領域190~900nmにわたって波長を連続的に変えながら,光を試料溶液に照射し,その吸収スペクトルから化合物の定量・定性分析を行う装置.測光範囲: -2~4 Abs.測定には、試料溶液約5mlが必要であり、溶媒として各種有機溶媒,水が利用できる.設置年月日2006.7.13, 2019.4.1整備改修 | 光分析装置 |
マテリアル先端リサーチインフラ事業(UTARIM) | (ARIM)IRエミッション顕微鏡 THEMOS-1000 | 特徴 ・ 半導体デバイスの故障に起因する発光・発熱などをとらえて故障個所を特定する高解像度エミッション顕微鏡です。赤外線画像の観測により、発熱分布(温度分布)の検出や、電流リーク箇所の同定が行えます。 ・ InSbHRカメラが搭載されており裏面観察時においても高解像度・高コントラストで細部に渡ってクリアなパターン像を得ることが可能です。 ・ 発熱分布の時間依存性計測により、温度の時間的な広がりが観測できます。 仕様 検出波長:3.7μm~5.1μm、最大視野:3cm x 2cm、最小視野:0.7mm x 0.7mm、最小空間分解能:2.8μm、雑音等価温度差:25mK、時間分解能:3μsec. 取得年月日 2014.3.26 |
専用測定装置 |
マテリアル先端リサーチインフラ事業(UTARIM) | (ARIM)光電子分光(XPS/UPS)装置 | 以下URLにアクセスし、詳細仕様を確認ください。 http://www.jeol.co.jp/applications/detail/559.html |
光分析装置 |
フォトンファクトリー(PF) | 超高圧実験装置(AR-NE1A) | X線エネルギー:10 ? 50 keV 単色X線 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 AR-NE1A for X-Ray Diffraction and M?ssbauer Spectroscopy Experiments at High Pressure |
ダイヤモンドアンビルセルを用いた超高圧・低温下でのX線構造解析。 レーザー加熱による地球の下部マントルからコアに迫る超高圧・超高温条件下での物質のふるまい。 |
フォトンファクトリー(PF) | 高圧実験装置(AR-NE5C, AR-NE7A) | X線エネルギー:25 ? 100 keV 白色X線 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 AR-NE5C 高温高圧実験ステ-ション AR-NE7A X線イメージングおよび高温高圧実験ステーション |
高温、高圧下でのX線構造解析やイメージング。地球下部マントル環境での物質のふるまい。 |
フォトンファクトリー(PF) | 高分解能角度分解光電子分光実験装置(BL-28A) | 高分解能角度分解光電子分光実験ステーションは、Gammadata Scienta製電子 分析器SES-2002を中心としたシステム(CCDカメラはデジタル取り込みにアッ プグレード済)(図8)であり、現在では40 eVの光子エネルギーで光電子の 全エネルギー分解能6 meVを達成している。 通常の角度分解光電子分光実験で は、主に15 meV ~25 meVのエネルギー分解能で実験が行われている。 また、 産業技術総合研究所で開発された低温多自由度マニピュレータ(iGonio-LT)を 導入しており、試料温度5 K ~ 300 Kでの角度分解光電子分光実験が可能である。 また、実験ステーションは測定槽、準備槽、試料導入槽からなっており、 試料槽を超高真空に保ったままでの試料交換が可能になっている。 ・放射光エネルギー:30 ? 300 eV ・Gammadata Scienta製電子分析器SES-2002を中心とした装置 ・試料槽を超高真空に保ったままでの試料交換が可能 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-28A 高分解能角度分解光電子分光実験ステーション |
高温超伝導体や巨大磁気抵抗マンガン酸化物に代表される強相関物質のフェルミ面、バンド分散、準粒子構造を直接的に観測 |
フォトンファクトリー(PF) | 軟X線2結晶分光装置(BL-11B) | X線エネルギー:1.7 ? 5 keV 通常のX線ステーションでは利用困難な低エネルギー領域の分光研究が可能。 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-11B 軟X線2結晶分光ステーション |
Si、P、S、Clなど軽元素のEXAFS測定が可能。XAFS測定等に用いる簡単なもの以外は、原則として試料槽は持ち込みが必要。 |
フォトンファクトリー(PF) | 水平型四軸回折計(BL-14A) | X線エネルギー:5 ? 21 keV リガク製イメージングプレート(IP)回折計 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://cmrc.kek.jp/beamlines/bl-8a/ http://cmrc.kek.jp/beamlines/bl-8b/ |
高圧、低温の極限条件下での強相関電子系物質、有機導体の相転移などの構造的研究。1.フーラレン、ナノチューブの構造と相転移機構の研究2.スピンパイエルス相転移の外場依存性の研究3.MEMによる電子密度レベルでの構造研究4.遷移金属酸化物の電荷・軌道の秩序状態の研究など |
フォトンファクトリー(PF) | 軟X線斜入射回折格子分光装置(BL-11A) | 利用可能放射光エネルギー:70 ? 1900 eV 幅広いエネルギー領域にわたって利用が可能 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-11A 軟X線斜入射回折格子分光ステーション |
C、N、O、F、Na、Mg、Alなど軽元素のEXAFSスペクトル測定が可能であるとともに多くのPF内実験装置を連結することも可能 |
フォトンファクトリー(PF) | タンパク質結晶構造解析(BL-1A, BL-5A, BL-17A, NE3A, NW12A) | X線エネルギー:4.5 ? 17 keV 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://pfweis.kek.jp/~protein/index.html http://pfweis.kek.jp/~protein/gallary/gallary.html http://pfweis.kek.jp/~protein/BeamLine/BL1/bl1.html http://pfweis.kek.jp/~protein/BeamLine/BL5/bl5.html http://pfweis.kek.jp/~protein/BeamLine/BL17/bl17.html http://pfweis.kek.jp/~protein/BeamLine/NE3A/ne3a.html http://pfweis.kek.jp/~protein/BeamLine/NW12/private/lmgc.html |
タンパク質微小結晶のX線結晶構造解析単結晶X線構造解析、振動写真法、多波長異常分散(MAD)法、単波長異常分散(SAD)法 |
フォトンファクトリー(PF) | メスバウアースペクトロスコピー(NE1A) | X線エネルギー:14.4 keV、30 keV、50 keV エネルギー分解能:dE/E = 5 × 10-7 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://pfwww.kek.jp/users_info/users_guide_e/station_spec_e/ne1/ne1a.html |
高圧下でのメスバウアースペクトロスコピー |
フォトンファクトリー(PF) | 放射性試料・核燃料物質分光実験装置(BL-27A, BL-27B) | X線エネルギー:1.8 ? 20 keV 非密封RI管理区域内に設置されたXAFS測定装置、光電子分光測定装置(1.8 ? 4 keV)の利用が可能。 放射性同位元素、核燃料物質を含む試料を用いることが可能。 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-27A 放射性試料用軟X線実験ステーション BL-27B 放射性試料用X線実験ステーション |
核燃料物質の物性研究、内殻電子励起による表面化学反応、新規低次元物質の探索と電子構造の解明など |
フォトンファクトリー(PF) | 溶液用小角散乱(酵素回折計)(BL-10C) | X線エネルギー:8 keV 溶液散乱の測定では、溶液試料用の標準セルホルダーが整備されている。 二次元大面積イメージングプレート自動読み取り式検出器R-AXIS VII(Rigaku) 一次元位置敏感型比例検出器 PSPC(Rigaku) 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://pfweis.kek.jp/~saxs/ http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/bl10/bl10c.html |
タンパク質・酵素溶液などの液体試料を用いたX線小角散乱実験。 タンパク質の溶液中のコンフォメーション及び機能時のコンフォメーション変化、高分子構造転移の評価など。 |
フォトンファクトリー(PF) | 単色X線・軟X線生物試料照射装置(BL-27A, BL-27B) | X線エネルギー:1.8 ? 20 keV 細胞や生体分子に大気中で単色X線・単色軟X線を照射可能。 また、4 keV以上では、細胞を顕微鏡観察しながら、個別の細胞にマイクロビーム単色X線を照射し、照射後も継続して観察することが可能。 隣接の生物試料準備室で試料調製や放射線影響の分析が可能。 また、トレーサーとして非密封RIを使用することができる。 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-27A 放射性試料用軟X線実験ステーション BL-27B 放射性試料用X線実験ステーション |
生体への放射線効果の研究など |
フォトンファクトリー(PF) | 軟X線光学素子評価装置(BL-11D) | 放射光エネルギー:60 ? 900 eV E/ΔE = 2000 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-11D 軟X線光学素子評価装置用ステーション |
回折格子や多層膜の反射率などの精密特性評価 |
フォトンファクトリー(PF) | 六軸X線回折計(BL-3A, BL-4C) | 回折計の仕様から、結晶の逆格子空間を広く走査する結晶構造解析的な実験よりは、 温度・圧力・磁場などの外場条件を変えながら、逆格子空間の一部を 高分解能・高精度で測定する構造物性的な実験に適している。 BL-3Aでは強磁場中での測定も可能。 X線エネルギー:4 ? 18 keV 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://cmrc.kek.jp/beamlines/bl-3a/ http://cmrc.kek.jp/beamlines/bl-4c/ |
精密X線回折・散乱実験物性と関連する長周期構造の観測3d電子系、4f電子系の共鳴X線散乱表面回折磁場中X線回折実験 |
フォトンファクトリー(PF) | 時分割実験装置(NW14A) | X線エネルギー:5 ? 25 keV 時間分解能:100ピコ秒程度 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://pfwww.kek.jp/adachis/NW14/NW14.htm |
X線回折、X線散乱、X線吸収による高速現象の解析、評価 |
フォトンファクトリー(PF) | X線光学素子評価装置(BL-3C, BL-14B, BL-14C) | X線エネルギー:4 ? 70 keV 白色X線(BL-3C、BL-14C) 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/bl3/bl3c.html http://pfwww.kek.jp/hirano/14b.html http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/bl14/bl14c.html |
X線光学素子の精密特性評価 |
フォトンファクトリー(PF) | 高分解能可変偏光真空紫外・軟X線利用実験装置(BL-28B) | 放射光エネルギー:30 ? 300 eV 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-28B 高分解能可変偏光真空紫外・軟X線ビームライン |
光電子顕微鏡、原子・分子分光実験などのユーザ持ち込み装置での実験に対応 |
フォトンファクトリー(PF) | X線小角散乱(BL-6A) | X線エネルギー:8 keV ハイブリッドピクセル検出器(PILATUS) CCD検出器 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://pfweis.kek.jp/~saxs/ http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/bl6/bl6a.html |
微小粒子、合金、生体試料などの数ナノメートルレベルでの構造の解析、評価 |
フォトンファクトリー(PF) | 表面化学研究用真空紫外軟X線分光装置(BL-13A, BL-13B) | 放射光エネルギー:30 ? 1600 eV 光電子分光装置(SES-200,Scienta)、試料作製用超高真空装置、有機試料蒸着用超高真空装置、試料加熱冷却面内回転トランスファー機構を常設 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-13A/B 表面化学研究用真空紫外軟X線分光ステーション |
角度分解紫外光電子分光、高分解能内殻光電子分光、高分解能軟X線吸収分光を中心とした表面化学の研究 |
フォトンファクトリー(PF) | 固体表面・界面光電子分光装置(BL-2A) | 放射光エネルギー:30 ? 2000 eV 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-2A 固体表面・界面光電子分光実験ステーション |
表面・界面物性、機能性材料、環境材料などの評価・開発研究など |
フォトンファクトリー(PF) | 蛍光X線イメージング装置(BL-4A) | X線エネルギー:5 ? 30 keV 白色X線 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 Photon Factory BL-4A BL-4A 蛍光X線分析/マイクロビーム分析 |
放射光を励起光源とした蛍光X線分析装置であり、環境試料、生医学試料、岩石試料、各種材料中に含まれるZ>10以上の元素分析、状態分析など |
フォトンファクトリー(PF) | X線イメージング装置(トポグラフィー)(BL-20B) | X線エネルギー:7 ? 25 keV イメージングプレート 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/bl20/bl20b.html |
X線回折像による試料(表面)の構造評価、半導体材料の評価など |
フォトンファクトリー(PF) | X線光学及びイメージング装置(BL-3C, BL-14B) | X線エネルギー:4 ? 40 keV 白色X線(BL-3C) 精密回折計、X線CCDカメラ、フラットパネル検出器等の利用が可能装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-3C X線光学素子評価ステーション/白色磁気回折ステーション BL-14B |
生体試料や工業材料等の非破壊内部観察、X線光学素子の開発や精密特性評価 |
フォトンファクトリー(PF) | X線吸収分光法(XAFS)(BL-9A, BL-9C, BL-12C, NW2, NW10A) | X線エネルギー:2.1 ? 42 keV 蛍光XAFS実験用19素子半導体検出系(BL-12C) 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://pfwww.kek.jp/nomura/pfxafs/index.html http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/xafsbl/9a/bl9a.html http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/xafsbl/9c/bl9c.html http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/xafsbl/12c/bl12c.html http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/xafsbl/nw2a/nw2a.html http://pfwww.kek.jp/users_info/station_spec/xafsbl/nw10a/nw10a.html |
透過法、蛍光法、転換電子収量法、(蛍光)全反射法を用いたX線吸収分光法(XAFS)による試料の評価 |
フォトンファクトリー(PF) | X線イメージング装置(単色X線投影法、単色X線CTなど)(BL-14B, BL-14C, NE7A) | X線エネルギー:7 ? 70 keV 白色X線(BL-14C、NE7A) CCD検出器 ハイブリッドピクセル検出器(PILATUS) 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-14B BL-14C X線イメージングおよび汎用X線実験ステーション AR-NE7A X線イメージングおよび高温高圧実験ステーション |
X線吸収イメージング法、位相イメージング法による試料の非破壊評価、非破壊検査、産業材料の評価、医学応用など |
フォトンファクトリー(PF) | 可変偏光軟X線分光装置(BL-16A) | 利用可能放射光エネルギー 円偏光: 297 ? 1000 eV 水平直線偏光:180 ? 1500 eV 垂直直線偏光:380 ? 1500 eV 楕円偏光:218 ? 1500 eV これらの偏光モードおよびエネルギーは、実験中随時変更が可能 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-16A 可変偏光軟X線分光ステーション |
Fe、Co、Niなどの3d遷移金属のL吸収端におけるX線吸収分光法(XAFS)やX線共鳴散乱(XRS)において、磁気円二色性(MCD)や磁気線二色性(MLD)の測定、および直線偏光依存XAFSに波長分散型XAFS法を組み合わせることによって固体表面における化学反応の実時間追跡 |
フォトンファクトリー(PF) | 機能性材料解析装置(BL-2B) | 放射光エネルギー:30 ? 4000 eV 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 BL-2B 機能性材料解析ステーション |
表面・界面物性、機能性材料、環境材料などの評価・開発研究など |
フォトンファクトリー(PF) | 多目目的極限条件下ワイセンベルグカメラ(BL-8A, BL-8B) | X線エネルギー:5 ? 21 keV リガク製イメージングプレート(IP)回折計 装置の詳細に関しましては次のリンク先をご参照ください。 http://cmrc.kek.jp/beamlines/bl-8a/ http://cmrc.kek.jp/beamlines/bl-8b/ |
高圧、低温の極限条件下での強相関電子系物質、有機導体の相転移などの構造的研究。1.フーラレン、ナノチューブの構造と相転移機構の研究2.スピンパイエルス相転移の外場依存性の研究3.MEMによる電子密度レベルでの構造研究4.遷移金属酸化物の電荷・軌道の秩序状態の研究など |
マイクロシステム融合研究開発センター(μSIC) | 赤外線顕微鏡 | 両面アライメントの確認、ウェハ接合面のボイド評価等 | 評価 |